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退火对NiCr薄膜阻值的影响分析

谢生 侯玉文 陈朝 毛陆虹 陈松岩

华侨大学学报(自然科学版)2009,Vol.30Issue(1):27-29,3.
华侨大学学报(自然科学版)2009,Vol.30Issue(1):27-29,3.

退火对NiCr薄膜阻值的影响分析

Analysis the Influence of Annealing on the Resistance of NiCr Thin Film

谢生 1侯玉文 1陈朝 2毛陆虹 1陈松岩2

作者信息

  • 1. 天津大学,电子信息工程学院,天津,300072
  • 2. 厦门大学,物理系,福建,厦门,361005
  • 折叠

摘要

关键词

镍铬/薄膜电阻/热退火/磁控溅射

分类

数理科学

引用本文复制引用

谢生,侯玉文,陈朝,毛陆虹,陈松岩..退火对NiCr薄膜阻值的影响分析[J].华侨大学学报(自然科学版),2009,30(1):27-29,3.

基金项目

国家自然科学基金重点资助项目(60736035) (60736035)

华侨大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSTPCD

1000-5013

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