江苏石油化工学院学报2000，Vol.12Issue(2)：27-30,4.
循环氩离子轰击对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响
The Effect of Repeated Ar+ Bombardment on the Corrosion Resistance of Plasma- enhanced Chemical Vapour Deposited (PECVD) TiN Film
谢飞 1何家文2
作者信息
- 1. 江苏石油化工学院,机械工程系,江苏,常州,213016
- 2. 西安交通大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710049
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摘要
关键词
等离子体增强化学气相沉积/TiN膜/耐蚀性/Ar+轰击分类
矿业与冶金引用本文复制引用
谢飞,何家文..循环氩离子轰击对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响[J].江苏石油化工学院学报,2000,12(2):27-30,4.
