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生长参数对MOCVD法制备的p型ZnO薄膜性能的影响

卢洋藩 叶志镇 曾昱嘉 徐伟中 朱丽萍 赵炳辉

半导体学报2007,Vol.28Issue(z1):275-278,4.
半导体学报2007,Vol.28Issue(z1):275-278,4.

生长参数对MOCVD法制备的p型ZnO薄膜性能的影响

Effects of Growth Parameters on Proprties of p-Type ZnO Films Grown by MOCVD

卢洋藩 1叶志镇 1曾昱嘉 1徐伟中 1朱丽萍 1赵炳辉1

作者信息

  • 1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
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摘要

关键词

ZnO/p型掺杂/金属有机化学气相沉积/射频等离子体

分类

电子信息工程

引用本文复制引用

卢洋藩,叶志镇,曾昱嘉,徐伟中,朱丽萍,赵炳辉..生长参数对MOCVD法制备的p型ZnO薄膜性能的影响[J].半导体学报,2007,28(z1):275-278,4.

基金项目

国家自然科学重点基金(批准号:50532060),国家自然科学基金(批准号:60340460439)和浙江省自然科学基金(批准号:Y405126)资助项目 (批准号:50532060)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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