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PLD法制备锑掺杂p型ZnO薄膜

潘新花 叶志镇 朱丽萍 顾修全 何海平

半导体学报2007,Vol.28Issue(z1):279-281,3.
半导体学报2007,Vol.28Issue(z1):279-281,3.

PLD法制备锑掺杂p型ZnO薄膜

Fabrication of Sb-Doped p-Type ZnO Thin Films by PLD

潘新花 1叶志镇 1朱丽萍 1顾修全 1何海平1

作者信息

  • 1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
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摘要

关键词

脉冲激光沉积/p-ZnO/锑掺杂

分类

电子信息工程

引用本文复制引用

潘新花,叶志镇,朱丽萍,顾修全,何海平..PLD法制备锑掺杂p型ZnO薄膜[J].半导体学报,2007,28(z1):279-281,3.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:50532060,60340460439)和浙江省自然科学基金(批准号:Y405126)资助项目 (批准号:50532060,60340460439)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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