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高择优取向Cu电沉积层的XRD研究

辜敏 杨防祖 黄令 姚士冰 周绍民

电化学2002，Vol.8Issue(3)：282-287,6.
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电化学2002，Vol.8Issue(3)：282-287,6.

高择优取向Cu电沉积层的XRD研究

XRD Study on Highly Preferred Orientation Cu Electrodeposit

辜敏 1杨防祖 2黄令 2姚士冰 2周绍民2

作者信息

  • 1. 汕头大学化学系,广东,汕头,515063厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室,物理化学研究所,福建,厦门,361005
  • 2. 厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室,物理化学研究所,福建,厦门,361005
  • 折叠

摘要

关键词

电沉积/Cu镀层/结构

分类

化学化工

引用本文复制引用

辜敏,杨防祖,黄令,姚士冰,周绍民..高择优取向Cu电沉积层的XRD研究[J].电化学,2002,8(3):282-287,6.

基金项目

国家自然科学基金(20073037),优秀国家重点实验室基金(20023001)资助 （20073037）

电化学

OACSCDCSTPCD

1006-3471

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