现代科学仪器Issue(2)：28-29,2.
纳米硅-氧化硅薄膜的XPS测量
Measurement of Nano-Si-SiO2 Thin Films on Si Wafers by XPS
吴正龙 1秦国刚2
作者信息
- 1. 北京师范大学分析测试中心,北京,100875
- 2. 北京大学物理系,北京,100871
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摘要
关键词
纳米硅-氧化硅/XPS/磁控溅射分类
数理科学引用本文复制引用
吴正龙,秦国刚..纳米硅-氧化硅薄膜的XPS测量[J].现代科学仪器,2003,(2):28-29,2.
