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一种新的硅深槽刻蚀技术研究

钱钢 张利春 阎桂珍 王咏梅 张大成 王阳元

半导体学报Issue(1)：29,1.
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半导体学报Issue(1)：29,1.

一种新的硅深槽刻蚀技术研究

钱钢 1张利春 1阎桂珍 1王咏梅 1张大成 1王阳元1

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摘要

关键词

硅/深槽刻蚀/反应离子刻蚀

分类

信息技术与安全科学

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钱钢,张利春,阎桂珍,王咏梅,张大成,王阳元..一种新的硅深槽刻蚀技术研究[J].半导体学报,1994,(1):29,1.

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

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