193 nm光刻胶的研制

郑金红黄志齐陈昕焦小明杨澜文武高子奇王艳梅

感光科学与光化学2005，Vol.23Issue(4)：300-311,12.

The Study of 193 nm Photoresist

郑金红 ¹黄志齐 ¹陈昕 ¹焦小明 ¹杨澜 ¹文武 ¹高子奇 ¹王艳梅¹

作者信息

193 nm/光刻胶/单体/主体树脂/光致产酸剂/配方

化学化工

郑金红,黄志齐,陈昕,焦小明,杨澜,文武,高子奇,王艳梅..193 nm光刻胶的研制[J].感光科学与光化学,2005,23(4):300-311,12.

国家863项目(2002AA3Z1330). （2002AA3Z1330）

OACSCD

ISSN：1674-0475

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