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紫外光/臭氧干法去除光刻胶速率的提高

谈凯声

半导体学报Issue(4)：301,1.
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半导体学报Issue(4)：301,1.

紫外光/臭氧干法去除光刻胶速率的提高

谈凯声1

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摘要

关键词

紫外光／臭氧/干法/清除/光刻/胶体

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

谈凯声..紫外光/臭氧干法去除光刻胶速率的提高[J].半导体学报,1990,(4):301,1.

半导体学报

OACSCD

1674-4926

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