西华大学学报（自然科学版）2008，Vol.27Issue(1)：30-31,72,3.
中频磁控反应溅射制备硅基氮化铝薄膜
Deposition of AlN Thin Films on Si(111) by Medium Frequency Magnetron Reaction Sputtering
陈璞 1彭启才1
作者信息
- 1. 西华大学材料科学与工程学院,四川,成都,610039
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摘要
关键词
氮化铝/中频磁控反应溅射/结构/粗糙度分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
陈璞,彭启才..中频磁控反应溅射制备硅基氮化铝薄膜[J].西华大学学报（自然科学版）,2008,27(1):30-31,72,3.
