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多弧离子镀Ti(C,N)/Ti薄膜性能研究

黄元林 朱有利 马世宁

表面技术2005,Vol.34Issue(6):30-32,3.
表面技术2005,Vol.34Issue(6):30-32,3.

多弧离子镀Ti(C,N)/Ti薄膜性能研究

Research on Property of Bilayer Films of Multi-arc Ion Ti(C,N)/Ti Plating

黄元林 1朱有利 1马世宁1

作者信息

  • 1. 全军装备维修表面工程研究中心,北京,100072
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摘要

关键词

多弧离子镀/45钢/Ti(C,N)/摩擦学

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

黄元林,朱有利,马世宁..多弧离子镀Ti(C,N)/Ti薄膜性能研究[J].表面技术,2005,34(6):30-32,3.

表面技术

OACSCD

1001-3660

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