国防科技大学学报2004，Vol.26Issue(6)：30-33,4.
泰氟隆烧蚀产物对电子密度的影响
The Effect of Wall Injection of Teflon Ablating Material on Electron Number Density
石于中 1王毛彦 1尹乐 1陈伟芳1
作者信息
- 1. 国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073
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石于中,王毛彦,尹乐,陈伟芳..泰氟隆烧蚀产物对电子密度的影响[J].国防科技大学学报,2004,26(6):30-33,4.
