电子器件2006，Vol.29Issue(2)：304-307,4.
氟化非晶碳薄膜结构与热稳定性研究
Structures and Thermal Stability of Fluorinated Amorphous Carbon Films
摘要
关键词
氟化非晶碳/低K材料/热稳定性/电子回旋共振化学沉积分类
数理科学引用本文复制引用
蒋昱,吴振宇,苏祥林,汪家友,杨银堂..氟化非晶碳薄膜结构与热稳定性研究[J].电子器件,2006,29(2):304-307,4.基金项目
电子元器件可靠性物理及其应用技术国家级重点实验室资助项目(51433020205DZ010101) （51433020205DZ010101）
