液晶与显示2006，Vol.21Issue(4)：309-313,5.
氧等离子体处理对ITO薄膜表面性能的影响
Influence of Oxygen Plasma Treatment on Surface Performance of Indium Tin Oxide Film
摘要
关键词
ITO/氧等离子体处理/原子力显微镜/表面形貌/润湿性分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
刘陈,朱光喜,刘德明..氧等离子体处理对ITO薄膜表面性能的影响[J].液晶与显示,2006,21(4):309-313,5.基金项目
华中科技大学博士后科学基金(No. 0101181220) （No. 0101181220）
