|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|硅酸盐学报|W-SiO2浆料与AlN共烧界面的微观结构分析

W-SiO2浆料与AlN共烧界面的微观结构分析

胡永达 蒋明 杨邦朝 崔嵩 张经国

硅酸盐学报2002，Vol.30Issue(3)：311-315,5.
✕
硅酸盐学报2002，Vol.30Issue(3)：311-315,5.

W-SiO2浆料与AlN共烧界面的微观结构分析

INTERFACIAL MICROSTRUCTURE ANALYSIS OF ALUMINUM NITRIDE CO-FIRE CERAMIC SUBSTRATE

胡永达 1蒋明 1杨邦朝 1崔嵩 2张经国2

作者信息

  • 1. 电子科技大学信息材料工程学院,成都,610054
  • 2. 信息产业部电子四十三所,合肥,230022
  • 折叠

摘要

关键词

氮化铝/多层共烧/导带浆料/烧结应力

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

胡永达,蒋明,杨邦朝,崔嵩,张经国..W-SiO2浆料与AlN共烧界面的微观结构分析[J].硅酸盐学报,2002,30(3):311-315,5.

基金项目

信息产业部电子科学研究院预研课题(30.2.2.5-1). （30.2.2.5-1）

硅酸盐学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0454-5648

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文