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硅基超薄多孔氧化铝膜的制备

杨昊炜 张璋 段晓楠 俞宏坤 金庆原

物理化学学报2008,Vol.24Issue(2):313-316,4.
物理化学学报2008,Vol.24Issue(2):313-316,4.

硅基超薄多孔氧化铝膜的制备

Fabrication of Ultra Thin Porous Alumina Membrane on Silicon Substrate

杨昊炜 1张璋 2段晓楠 1俞宏坤 1金庆原2

作者信息

  • 1. 复旦大学材料科学系,上海,200433
  • 2. 复旦大学光科学与工程系,上海,200433
  • 折叠

摘要

关键词

多孔氧化铝膜/硅基/超薄/生长机理

分类

化学化工

引用本文复制引用

杨昊炜,张璋,段晓楠,俞宏坤,金庆原..硅基超薄多孔氧化铝膜的制备[J].物理化学学报,2008,24(2):313-316,4.

物理化学学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-6818

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