金刚石与磨料磨具工程Issue(1)：31-35,5.
强电流直流伸展电弧等离子体CVD金刚石沉积均匀性研究
Research on the deposition uniformity of high current extended DC arc plasma CVD
宋建华 1苗晋琦 1吕反修 1唐伟忠1
作者信息
- 1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
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摘要
关键词
金刚石膜/强电流直流伸展电弧/等离子体/均匀性/有效沉积区域分类
化学化工引用本文复制引用
宋建华,苗晋琦,吕反修,唐伟忠..强电流直流伸展电弧等离子体CVD金刚石沉积均匀性研究[J].金刚石与磨料磨具工程,2006,(1):31-35,5.
