液晶与显示2005，Vol.20Issue(4)：314-317,4.
X射线衍射分析热处理温度对透明导电膜结构与导电性能的影响
Effects of Annealing Temperature on the Structure and Sheet Resistance of ITO Films with X-ray Diffraction Techniques
摘要
关键词
ITO膜/热处理温度/X射线衍射分析/溶胶-凝胶法分类
数理科学引用本文复制引用
马颖,韩薇,张方辉..X射线衍射分析热处理温度对透明导电膜结构与导电性能的影响[J].液晶与显示,2005,20(4):314-317,4.基金项目
陕西省教育厅基金资助项目(No.03JK161) （No.03JK161）
陕西科技大学基金资助项目(No.ZX04-34) （No.ZX04-34）
