半导体学报2005，Vol.26Issue(2)：314-318,5.
射频磁控溅射制备ZnO∶Ga透明导电膜及特性
Properties of Transparent Conducting ZnO∶Ga Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
摘要
关键词
磁控溅射/ZnO∶Ga/光电特性分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
余旭浒,马瑾,计峰,王玉恒,王翠英,马洪磊..射频磁控溅射制备ZnO∶Ga透明导电膜及特性[J].半导体学报,2005,26(2):314-318,5.基金项目
国家自然科学基金(批准号:6027044),博士点基金(批准号:20020422056)资助项目 （批准号:6027044）
