| 注册
首页|期刊导航|传感技术学报|直流磁控反应溅射法制备TiO2薄膜及氧敏特性分析

直流磁控反应溅射法制备TiO2薄膜及氧敏特性分析

张毅 孙以材 潘国峰

传感技术学报2005,Vol.18Issue(2):321-324,4.
传感技术学报2005,Vol.18Issue(2):321-324,4.

直流磁控反应溅射法制备TiO2薄膜及氧敏特性分析

Preparation of TiO2 Thin Films by DC Magnetron Reaction Sputtering and Analysis of Oxygen-Sensing Properties

张毅 1孙以材 1潘国峰1

作者信息

  • 1. 河北工业大学微电子所,天津,300130
  • 折叠

摘要

关键词

直流磁控反应溅射/TiO2薄膜/氧敏/激活能/机理

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

张毅,孙以材,潘国峰..直流磁控反应溅射法制备TiO2薄膜及氧敏特性分析[J].传感技术学报,2005,18(2):321-324,4.

传感技术学报

OA北大核心CSCD

1004-1699

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文