原子能科学技术1999，Vol.33Issue(4)：323-325,3.
整体式空腔靶制备工艺
FABRICATION PROCESSES FOR INTEGRAL HOHLRAUM TARGETS
黄燕华 1郑永铭 1李秀琴 1陆晓明 1唐永建 1周兰 1罗青 1袁光辉1
作者信息
- 1. 中国工程物理研究院核物理与化学研究所,成都,610003
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摘要
关键词
惯性约束聚变/空腔/微加工/电镀分类
能源科技引用本文复制引用
黄燕华,郑永铭,李秀琴,陆晓明,唐永建,周兰,罗青,袁光辉..整体式空腔靶制备工艺[J].原子能科学技术,1999,33(4):323-325,3.
