材料工程Issue(3)：32-35,4.
碳化硅颗粒表面磁控溅射镀铜膜的研究
Plating Metal Film on the Surface of Carborundum Particles by Magnetron Sputtering Method
摘要
关键词
磁控溅射/金属膜/碳化硅/X射线衍射仪分类
通用工业技术引用本文复制引用
俞晓正,沈志刚,徐政..碳化硅颗粒表面磁控溅射镀铜膜的研究[J].材料工程,2008,(3):32-35,4.基金项目
航空基金项目(05H51046) （05H51046）
北京市教育委员会共建项目建设计划资助项目(JD100060627). （JD100060627）
