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CVD法在电致发光粉表面包覆SiO2膜

李志强 李娟 田少华 韦志仁

表面技术2004,Vol.33Issue(2):32-35,4.
表面技术2004,Vol.33Issue(2):32-35,4.

CVD法在电致发光粉表面包覆SiO2膜

Silicon Dioxide Deposition on ACEL Phosphor Particles via CVD

李志强 1李娟 1田少华 1韦志仁1

作者信息

  • 1. 河北大学物理科学与技术学院,河北,保定,071002
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摘要

关键词

电致发光粉/SiO2/包膜/CVD

分类

数理科学

引用本文复制引用

李志强,李娟,田少华,韦志仁..CVD法在电致发光粉表面包覆SiO2膜[J].表面技术,2004,33(2):32-35,4.

基金项目

河北省自然科学基金资助项目(502123) (502123)

表面技术

OACSCDCSTPCD

1001-3660

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