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添加剂对化学沉积速率的影响

胡光辉 吴辉煌 杨防祖 王森林

物理化学学报2004,Vol.20Issue(3):327-330,4.
物理化学学报2004,Vol.20Issue(3):327-330,4.

添加剂对化学沉积速率的影响

Effect of Additives on Electroless Deposition Rate

胡光辉 1吴辉煌 1杨防祖 1王森林2

作者信息

  • 1. 厦门大学化学化工学院,固体表面物理化学国家重点实验室,厦门,361005
  • 2. 华侨大学材料学院,泉州,362000
  • 折叠

摘要

关键词

化学沉积速率,LaCl3,乳酸,Fe2(SO4)3,硫脲,2,2′-联吡啶

分类

化学化工

引用本文复制引用

胡光辉,吴辉煌,杨防祖,王森林..添加剂对化学沉积速率的影响[J].物理化学学报,2004,20(3):327-330,4.

基金项目

国家自然科学基金(20073035)资助项目 (20073035)

物理化学学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-6818

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