激光技术2007，Vol.31Issue(3)：330-332,3.
激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用
Laser chemical vapor deposition used in photomask repair
黄河 1朱晓 1朱长虹 1朱广志 1李跃松 2张沛 2万承华2
作者信息
- 1. 华中科技大学,激光工程研究院,武汉,430074
- 2. 清溢精密光电有限公司,深圳,518000
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摘要
关键词
激光技术/光化学/光掩模修复/激光化学气相沉积/开放式分类
化学化工引用本文复制引用
黄河,朱晓,朱长虹,朱广志,李跃松,张沛,万承华..激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用[J].激光技术,2007,31(3):330-332,3.
