| 注册
首页|期刊导航|安徽大学学报(自然科学版)|SiO2对(Sr,Bi,Si,Ta)掺杂的TiO2基压敏陶瓷电性能的影响

SiO2对(Sr,Bi,Si,Ta)掺杂的TiO2基压敏陶瓷电性能的影响

孟凡明 胡素梅 傅刚 方庆清

安徽大学学报(自然科学版)2004,Vol.28Issue(3):33-37,5.
安徽大学学报(自然科学版)2004,Vol.28Issue(3):33-37,5.

SiO2对(Sr,Bi,Si,Ta)掺杂的TiO2基压敏陶瓷电性能的影响

Influence of SiO2 on electrical properties of (Sr,Bi,Si,Ta)-added TiO2-based varistor

孟凡明 1胡素梅 2傅刚 3方庆清1

作者信息

  • 1. 安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039
  • 2. 茂名学院,技术物理系,广东,茂名,525300
  • 3. 广州大学,固体物理与材料研究实验室,广东,广州,510405
  • 折叠

摘要

关键词

TiO2基压敏陶瓷/压敏电压/非线性系数/电容量/晶粒电阻/半导化

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

孟凡明,胡素梅,傅刚,方庆清..SiO2对(Sr,Bi,Si,Ta)掺杂的TiO2基压敏陶瓷电性能的影响[J].安徽大学学报(自然科学版),2004,28(3):33-37,5.

安徽大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-2162

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文