光敏聚酰亚胺抗蚀剂的研究

李加深李佐邦朱普坤杨丽芳李芳焦晓明成爱萍陈建军

感光科学与光化学1999，Vol.17Issue(4)：334-337,4.

STUDIES ON A KIND OF NEGATIVE PHOTORESIST BASED ON PHOTOSENSITIVE POLYIMIES

李加深 ¹李佐邦 ¹朱普坤 ¹杨丽芳 ¹李芳 ¹焦晓明 ²成爱萍 ²陈建军²

作者信息

光敏聚酰亚胺/光固化机理/热失重/光刻工艺

化学化工

李加深,李佐邦,朱普坤,杨丽芳,李芳,焦晓明,成爱萍,陈建军..光敏聚酰亚胺抗蚀剂的研究[J].感光科学与光化学,1999,17(4):334-337,4.

国家自然科学基金(批准号:59472008)和河北省自然科学基金资助项目（批准号:59472008）

OA北大核心CSCD

ISSN：1674-0475

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