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化学镀镍磷合金镀层孔隙率的电化学评价

俞宏英 孙冬柏 黄锦滨 杨德钧

电化学2000,Vol.6Issue(3):335-340,6.
电化学2000,Vol.6Issue(3):335-340,6.

化学镀镍磷合金镀层孔隙率的电化学评价

Electrochemical Evaluation on the Porosity of Electroless Ni-P Alloy Coatings

俞宏英 1孙冬柏 1黄锦滨 1杨德钧1

作者信息

  • 1. 北京科技大学表面科学与腐蚀工程系,北京,100083
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摘要

关键词

电化学/孔隙率/镍磷合金/镀层

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

俞宏英,孙冬柏,黄锦滨,杨德钧..化学镀镍磷合金镀层孔隙率的电化学评价[J].电化学,2000,6(3):335-340,6.

电化学

OACSCDCSTPCD

1006-3471

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