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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响

王贺权 沈辉 巴德纯 汪保卫 闻立时

材料科学与工程学报2005，Vol.23Issue(3)：341-344,4.
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材料科学与工程学报2005，Vol.23Issue(3)：341-344,4.

温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响

Effect of Temperature on Optical Properties of TiO2 Thin Film Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering

王贺权 1沈辉 2巴德纯 3汪保卫 1闻立时4

作者信息

  • 1. 东北大学,辽宁,沈阳,110004
  • 2. 沈阳农业大学,辽宁,沈阳,110161
  • 3. 中山大学,广东,广州,510275
  • 4. 中国科学院广州能源研究所,广东,广州,510070
  • 折叠

摘要

关键词

二氧化钛薄膜/直流反应磁控溅射/温度/反射率

分类

化学化工

引用本文复制引用

王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时..温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响[J].材料科学与工程学报,2005,23(3):341-344,4.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(50376067) （50376067）

材料科学与工程学报

OACSCD

1673-2812

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