| 注册
首页|期刊导航|原子能科学技术|8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性

8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性

吕俊霞 马月英 裴舒 沈长斌 曹健林 陈星旦

原子能科学技术1999,Vol.33Issue(4):343-345,3.
原子能科学技术1999,Vol.33Issue(4):343-345,3.

8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性

FABRICATION AND CHARACTERIZATION OF Mo/B4C MULTILAYER AT WAVELENGTH OF 8.0 nm FOR X-RAY LASER

吕俊霞 1马月英 1裴舒 1沈长斌 2曹健林 1陈星旦1

作者信息

  • 1. 中国科学院长春光学精密机械研究所,130022
  • 2. 大连铁道学院,116028
  • 折叠

摘要

关键词

软X射线/Mo/B4C多层膜/磁控溅射法

分类

数理科学

引用本文复制引用

吕俊霞,马月英,裴舒,沈长斌,曹健林,陈星旦..8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性[J].原子能科学技术,1999,33(4):343-345,3.

原子能科学技术

OA北大核心CSCD

1000-6931

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文