原子能科学技术1999,Vol.33Issue(4):343-345,3.
8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性
FABRICATION AND CHARACTERIZATION OF Mo/B4C MULTILAYER AT WAVELENGTH OF 8.0 nm FOR X-RAY LASER
吕俊霞 1马月英 1裴舒 1沈长斌 2曹健林 1陈星旦1
作者信息
- 1. 中国科学院长春光学精密机械研究所,130022
- 2. 大连铁道学院,116028
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摘要
关键词
软X射线/Mo/B4C多层膜/磁控溅射法分类
数理科学引用本文复制引用
吕俊霞,马月英,裴舒,沈长斌,曹健林,陈星旦..8.0nm X射线激光反射镜Mo/B4C多层膜制备及其特性[J].原子能科学技术,1999,33(4):343-345,3.