半导体学报2004，Vol.25Issue(3)：346-350,5.
中、低能离子注入中的剂量效应及模拟方法
Dose Effect in Low and Medium Energy Ion Implantation and Simulation Method
摘要
关键词
离子注入/剂量效应/模拟/分子动力学分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
施小康,于民,石浩,黄如,张兴..中、低能离子注入中的剂量效应及模拟方法[J].半导体学报,2004,25(3):346-350,5.基金项目
国家重点基础研究发展规划资助项目(No.G2000036501) （No.G2000036501）
