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不同N2气流量比反应溅射TiN薄膜的表面形貌分形特征

雒向东

量子电子学报2008,Vol.25Issue(3):346-350,5.
量子电子学报2008,Vol.25Issue(3):346-350,5.

不同N2气流量比反应溅射TiN薄膜的表面形貌分形特征

Fractal surface of TiN thin films sputtered at different N2 flow ratios

雒向东1

作者信息

  • 1. 兰州城市学院培黎工程技术学院,甘肃兰州,730070
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摘要

关键词

材料/表面形貌/分形理论/薄膜

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

雒向东..不同N2气流量比反应溅射TiN薄膜的表面形貌分形特征[J].量子电子学报,2008,25(3):346-350,5.

量子电子学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-5461

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