液晶与显示2008，Vol.23Issue(3)：352-356,5.
沉积气压对氮化硼薄膜场发射特性的影响
Influence of Deposition Pressure on Field Emission Characteristics of Boron Nitride Films
摘要
关键词
射频等离子体/氮化硼薄膜/场发射特性/阈值电场分类
数理科学引用本文复制引用
李卫青..沉积气压对氮化硼薄膜场发射特性的影响[J].液晶与显示,2008,23(3):352-356,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(No.10647140) （No.10647140）
天津大学青年基金资助项目(No.5110119) （No.5110119）
