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直流磁控溅射工艺对ZnO薄膜结构影响的研究

吕文中 贾小龙 何笑明

人工晶体学报2004,Vol.33Issue(1):35-39,5.
人工晶体学报2004,Vol.33Issue(1):35-39,5.

直流磁控溅射工艺对ZnO薄膜结构影响的研究

Influences of Technical Conditions on the Structure of ZnO Films Deposited by DC Magnetic Control Sputtering

吕文中 1贾小龙 1何笑明1

作者信息

  • 1. 华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074
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摘要

关键词

ZnO薄膜/基片温度/c轴取向/退火/氩氧比/结晶质量

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

吕文中,贾小龙,何笑明..直流磁控溅射工艺对ZnO薄膜结构影响的研究[J].人工晶体学报,2004,33(1):35-39,5.

基金项目

湖北省杰出青年基金(2002AO002)资助项目 (2002AO002)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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