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非晶Er2O3高k栅介质薄膜的制备及结构特性研究

方泽波 谭永胜 朱燕艳 陈圣 蒋最敏

无机材料学报2008,Vol.23Issue(2):357-360,4.
无机材料学报2008,Vol.23Issue(2):357-360,4.

非晶Er2O3高k栅介质薄膜的制备及结构特性研究

Structural Characteristics of Amorphous Er2O3 Films Grown on Si (001) by Reactive Evaporation

方泽波 1谭永胜 2朱燕艳 1陈圣 2蒋最敏2

作者信息

  • 1. 绍兴文理学院,物电系,绍兴312000
  • 2. 复旦大学,应用表面物理国家重点实验室,上海200433
  • 折叠

摘要

关键词

高k栅介质/Er2O3薄膜/反应蒸发

分类

数理科学

引用本文复制引用

方泽波,谭永胜,朱燕艳,陈圣,蒋最敏..非晶Er2O3高k栅介质薄膜的制备及结构特性研究[J].无机材料学报,2008,23(2):357-360,4.

基金项目

国家重点基础研究专项基金(G2001CB3095,10321003,60425411) (G2001CB3095,10321003,60425411)

绍兴市科技基金(2007A21015) (2007A21015)

无机材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-324X

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