长江大学学报（自然科学版）2005，Vol.2Issue(10)：359-361,3.
离子束增强沉积掺杂氧化钒薄膜的最佳退火条件
Best Annealing Conditions of Doped Vanadium Oxide Films Prepared by Modified Ion Beam Enhanced Deposition
摘要
关键词
氧化钒薄膜/退火/离子束增强沉积分类
通用工业技术引用本文复制引用
谢建生,李金华,袁宁一..离子束增强沉积掺杂氧化钒薄膜的最佳退火条件[J].长江大学学报（自然科学版）,2005,2(10):359-361,3.基金项目
国家自然科学基金资助项目(60277019) （60277019）
江苏省自然科学基金资助项目(BK2005023). （BK2005023）
