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以高性价比颗粒硅带为衬底多晶硅薄膜的二次引铝低温制备法

邱春文 石旺舟 王晓晶 周燕

人工晶体学报2003,Vol.32Issue(4):361-365,5.
人工晶体学报2003,Vol.32Issue(4):361-365,5.

以高性价比颗粒硅带为衬底多晶硅薄膜的二次引铝低温制备法

Preparation of Polycrystalline Silicon Thin Films on Cheap Silicon Sheets from Powder Substrate by PECVD and Introducing Aluminum Twice

邱春文 1石旺舟 2王晓晶 3周燕1

作者信息

  • 1. 汕头大学物理系,汕头,515063
  • 2. 华东师范大学物理系,上海,200000
  • 3. 中国科学院广州能源研究所太阳能利用实验室,广州,510070
  • 折叠

摘要

关键词

多晶硅带衬底/多晶硅薄膜/等离子体化学气相沉积法/二次引铝/低温制备

分类

数理科学

引用本文复制引用

邱春文,石旺舟,王晓晶,周燕..以高性价比颗粒硅带为衬底多晶硅薄膜的二次引铝低温制备法[J].人工晶体学报,2003,32(4):361-365,5.

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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