云南冶金2009，Vol.38Issue(3)：36-39,4.
PECVD法制备硅太阳电池SiN薄膜工艺研究进展
Overview on SiN Thin Film Prepared by PECVD for Silicon Solar Cell
冯炜光 1刘翔 2储清梅 1张鹏翔2
作者信息
- 1. 昆明理工大学光电子新材料研究所,云南,昆明,650031
- 2. 昆明理工大学真空冶金及材料研究所,云南,昆明,650093
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摘要
关键词
太阳电池/PECVD/SiN薄膜分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
冯炜光,刘翔,储清梅,张鹏翔..PECVD法制备硅太阳电池SiN薄膜工艺研究进展[J].云南冶金,2009,38(3):36-39,4.
