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关于退火温度对VO2薄膜制备及其电学性质影响的研究

王静 何捷 刘中华

四川大学学报(自然科学版)2006,Vol.43Issue(2):365-370,6.
四川大学学报(自然科学版)2006,Vol.43Issue(2):365-370,6.

关于退火温度对VO2薄膜制备及其电学性质影响的研究

Preparation and Electrical Properties of VO2 Thin Films Affected by Annealed Temprature

王静 1何捷 1刘中华1

作者信息

  • 1. 四川大学物理系·辐射物理教育部重点实验室,成都,610064
  • 折叠

摘要

关键词

VO2(A)型薄膜/VO2(B)型薄膜/四方晶系VO2的薄膜/退火温度

分类

数理科学

引用本文复制引用

王静,何捷,刘中华..关于退火温度对VO2薄膜制备及其电学性质影响的研究[J].四川大学学报(自然科学版),2006,43(2):365-370,6.

基金项目

国家自然科学基金(10475058) (10475058)

四川大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSCDCSTPCD

0490-6756

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