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0.13μm射频MOS场效应晶体管特性及模拟

池毓宋 黄风义 吴忠洁 张少勇 孔晓明 王志功

半导体学报2006,Vol.27Issue(2):373-376,4.
半导体学报2006,Vol.27Issue(2):373-376,4.

0.13μm射频MOS场效应晶体管特性及模拟

Characterization and Modeling for 0.13μm RF MOSFETs

池毓宋 1黄风义 1吴忠洁 1张少勇 1孔晓明 1王志功1

作者信息

  • 1. 东南大学无线电工程系,射频与光电集成电路研究所,南京,210096
  • 折叠

摘要

关键词

CMOS/射频/小信号模型/参数提取

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

池毓宋,黄风义,吴忠洁,张少勇,孔晓明,王志功..0.13μm射频MOS场效应晶体管特性及模拟[J].半导体学报,2006,27(2):373-376,4.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:60476012),江苏省自然科学基金(批准号:BK2004066),东南大学科学基金(批准号:XJ0404142)资助项目 (批准号:60476012)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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