| 注册
首页|期刊导航|发光学报|LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射

LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射

刘渝珍 石万全 刘世祥 姚德成 刘金龙 韩一琴 赵玲莉 孙宝银 叶甜春 陈梦真

发光学报Issue(1):37-39,3.
发光学报Issue(1):37-39,3.

LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射

刘渝珍 1石万全 1刘世祥 2姚德成 2刘金龙 2韩一琴 2赵玲莉 2孙宝银 2叶甜春 2陈梦真2

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学研究生院
  • 折叠

摘要

关键词

LPCVD/氮化硅/薄膜/可见荧光/室温/激光激发

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘渝珍,石万全,刘世祥,姚德成,刘金龙,韩一琴,赵玲莉,孙宝银,叶甜春,陈梦真..LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射[J].发光学报,1999,(1):37-39,3.

发光学报

OA北大核心CSCD

1000-7032

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文