液晶与显示2007，Vol.22Issue(1)：37-41,5.
Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜的孕育层控制
Restriction on Amorphous Incubation Layer of Polysilicon Thin Films by Catalytic Chemical Vapor Deposition
摘要
关键词
催化化学气相沉积法/多晶硅薄膜/非晶硅孕育层/氢原子刻蚀/晶核/晶化速率分类
数理科学引用本文复制引用
张玉,荆海,付国柱,高博,廖燕平,李世伟,黄金英..Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜的孕育层控制[J].液晶与显示,2007,22(1):37-41,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(No.60576056) （No.60576056）
