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分子束外延HgCdTe薄膜位错密度的研究

于梅芳 杨建荣 王善力 陈新强 乔怡敏 巫艳 何力 韩培德

半导体学报Issue(5):378,1.
半导体学报Issue(5):378,1.

分子束外延HgCdTe薄膜位错密度的研究

于梅芳 1杨建荣 2王善力 3陈新强 3乔怡敏 3巫艳 3何力 3韩培德3

作者信息

  • 1. 半导体薄膜材料研究中心及约外物理国家重点实验室
  • 2. 中国科学院北京电子显微镜实验室
  • 折叠

摘要

关键词

分子束外延/位错/HgCdTe薄膜/密度

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

于梅芳,杨建荣,王善力,陈新强,乔怡敏,巫艳,何力,韩培德..分子束外延HgCdTe薄膜位错密度的研究[J].半导体学报,1999,(5):378,1.

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

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