物理学报2005，Vol.54Issue(8)：3805-3809,5.
用SiCl4/H2气源沉积多晶硅薄膜光照稳定性的研究
The light-stability of polycrystalline silicon films deposited at low temperatures from SiCI4/H2 mixture
摘要
关键词
多晶硅薄膜/稳恒光电导效应/晶界/光致衰退效应分类
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祝祖送,林璇英,余云鹏,林揆训,邱桂明,黄锐,余楚迎..用SiCl4/H2气源沉积多晶硅薄膜光照稳定性的研究[J].物理学报,2005,54(8):3805-3809,5.基金项目
国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000028208)资助的课题. （批准号:G2000028208）
