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高质量金刚石膜在无氧铜衬底上的MPCVDOA北大核心CSCDCSTPCD

Growth of High Quality Diamond Films on Cu Metal Substrates by MPCVD

中文摘要

本文采用高纯无氧铜(Cu)片作为基片,用自行设计的微波等离子体化学气相沉积系统,制备出了高质量多晶金刚石膜.用场发射扫描电子显微镜(SEM)、Raman散射谱和X射线衍射谱(XRD)对制备的金刚石膜进行了表征与分析,其结果证明金刚石膜具有较优的质量.

常开朋;程文娟;江锦春;张阳;朱鹤孙;沈德忠

清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084清华大学化学系,功能晶体与薄膜研究所,北京,100084

数理科学

金刚石薄膜无氧铜微波等离子体化学气相沉积

《人工晶体学报》 2003 (4)

382-385,4

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