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硅橡胶憎水性的恢复机理研究进展

郑知敏 任长玉 蒋舰 高伟 谢择民

高压电器2000,Vol.36Issue(4):38-41,4.
高压电器2000,Vol.36Issue(4):38-41,4.

硅橡胶憎水性的恢复机理研究进展

郑知敏 1任长玉 1蒋舰 1高伟 1谢择民1

作者信息

  • 1. 中国科学院化学研究所,北京,100080
  • 折叠

摘要

关键词

硅橡胶绝缘子/憎水性恢复机理/基因

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

郑知敏,任长玉,蒋舰,高伟,谢择民..硅橡胶憎水性的恢复机理研究进展[J].高压电器,2000,36(4):38-41,4.

高压电器

OA北大核心CSTPCD

1001-1609

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