| 注册
首页|期刊导航|武汉化工学院学报|采用石墨碳源沉积金刚石薄膜

采用石墨碳源沉积金刚石薄膜

王传新 汪建华 马志斌 满卫东 王升高 吴艳丽 陈章

武汉化工学院学报2002,Vol.24Issue(4):38-41,4.
武汉化工学院学报2002,Vol.24Issue(4):38-41,4.

采用石墨碳源沉积金刚石薄膜

Preparation of diamond films from graphite

王传新 1汪建华 2马志斌 1满卫东 1王升高 1吴艳丽 2陈章1

作者信息

  • 1. 武汉化工学院材料科学与工程系,湖北,武汉,430073
  • 2. 中国科学院等离子体物理研究所,安徽,合肥,230031
  • 折叠

摘要

关键词

MPCVD/金刚石薄膜/生长速率

分类

数理科学

引用本文复制引用

王传新,汪建华,马志斌,满卫东,王升高,吴艳丽,陈章..采用石墨碳源沉积金刚石薄膜[J].武汉化工学院学报,2002,24(4):38-41,4.

武汉化工学院学报

1674-2869

访问量2
|
下载量0
段落导航相关论文