| 注册
首页|期刊导航|红外技术|碲溶剂法生长高均匀性Hg1-xCdxTe体晶材料的工艺研究

碲溶剂法生长高均匀性Hg1-xCdxTe体晶材料的工艺研究

李富培 李玉德 郭云成 庄维莎 刘新进

红外技术2005,Vol.27Issue(5):384-387,4.
红外技术2005,Vol.27Issue(5):384-387,4.

碲溶剂法生长高均匀性Hg1-xCdxTe体晶材料的工艺研究

The Bulk Crystal Growth Technology of High Compositional Uniformity Hg1-xCdxTe Use Te as Solvent

李富培 1李玉德 1郭云成 1庄维莎 1刘新进1

作者信息

  • 1. 昆明物理研究所,云南,昆明,650223
  • 折叠

摘要

关键词

碲镉汞/红外材料/组分均匀性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李富培,李玉德,郭云成,庄维莎,刘新进..碲溶剂法生长高均匀性Hg1-xCdxTe体晶材料的工艺研究[J].红外技术,2005,27(5):384-387,4.

红外技术

OA北大核心CSCD

1001-8891

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文