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磁控溅射沉积U薄膜性能研究

鲜晓斌吕学超张永彬任大鹏

原子能科学技术2002，Vol.36Issue(4)：396-398,3.

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原子能科学技术2002，Vol.36Issue(4)：396-398,3.

磁控溅射沉积U薄膜性能研究

Study on Properties of U Films Prepared by Magnetron Sputtering

鲜晓斌 ¹吕学超 ¹张永彬 ¹任大鹏¹

作者信息

1. 中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900
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摘要

关键词

U薄膜/组织/结构/密度

分类

数理科学

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鲜晓斌,吕学超,张永彬,任大鹏..磁控溅射沉积U薄膜性能研究[J].原子能科学技术,2002,36(4):396-398,3.

原子能科学技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-6931

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