吉林大学学报（理学版）2002，Vol.40Issue(4)：397-399,3.
DC磁控溅射沉积FexN薄膜成分及生长机制
The Composition and Growth Mechanism of Iron Nitride Thin Films Deposited by DC Magnetron Sputtering
王欣 1高丽娟 1郑伟涛 1徐跃2
作者信息
- 1. 吉林大学材料科学与工程学院,长春,130023
- 2. 吉林大学分析测试中心,长春,130023
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摘要
关键词
FexN薄膜/直流磁控溅射/生长机制分类
数理科学引用本文复制引用
王欣,高丽娟,郑伟涛,徐跃..DC磁控溅射沉积FexN薄膜成分及生长机制[J].吉林大学学报（理学版）,2002,40(4):397-399,3.
